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TS-300S Hesper
HDPCVD 设备

产物介绍

Hesper 产物是 HDPCVD(高密度等离子体化学气相沉积)12英寸高性能薄膜沉积设备。 该设备主要用于 STI、PMD、ILD 和 IMD 等种种沟道介质填充，其工艺广泛用于逻辑芯片及存储器芯片制程。Hesper 系列产物接纳利来老牌国际官网app六边形平台(TS-300S)，可搭配5个反映腔，具有高产能、高填充效果和低颗粒度等优势，可满足芯片制程中多种技术节点要求。

TS-300S Hesper
HDPCVD 设备

产物特点
-六边形的高产能平台
-可搭配多个反映腔，实现产能的优化配置
-可沉积高质量的SiO? 和 FSG 薄膜
-颗粒度体现优异
-沉积和刻蚀速率可控可调
-S2宁静认证和F47尺度检验